تحلیل فرکتالی ویژگی های سطح لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع
نویسندگان
چکیده
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ( ito ) در ضخامت های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه ها 100 ، 150 و 250 نانومتر می باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات مورفولوژیکی سطح در حالت آمورف مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که با افزایش ضخامت، ناهمواری سطح ( rms ) w و طول همبستگی عرضی x کاهش پیدا می کند. همچنین، نمای ناهمواری α و نمای رشد β ، به ترتیب برابر α =0.72±0.01 و β=0.11±0.01 ، به دست آمد. بر اساس این نتایج، دریافتیم که فرآیند رشد لایه ها را میتوان به صورت ترکیبی از مدل های خطی ew و پخش سطحی مولینز توصیف نمود.
منابع مشابه
تحلیل فرکتالی ویژگیهای سطح لایه‌های نازک اکسید ایندیوم قلع
In this study, indium-tin-oxide thin films in different thickness ranges were prepared by electron beam evaporation method on the glass substrate at room temperature. The thicknesses of films were 100, 150 and 250nm. Using fractal analysis, morphological characteristics of surface films thickness in amorphous state were investigated. The results showed that by increasing thickness, surface rou...
متن کاملمطالعه ویژگیهای سطح یک لایه نازک ساخته شده با نانو ذرات اکسید ایندیوم قلع: رهیافت فرکتالی
ناهمواری سطح لایه در بررسی خواص ساختاری لایه های نازک از اهمیت فراوانی برخوردار است. لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع (ito) مورد استفاده در این تحقیق در ضخامت های مختلف به روش تبخیر با پرتو با الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده اند. ضخامت لایه ها 100، 170، 250 و 350 نانومتر می باشد. اثر ضخامت بر روی مورفولوژی سطح لایه ها در حالت آمورف (بی شکل) مورد بررسی قرار گرفت. . نتایج ما نش...
15 صفحه اولبررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...
متن کاملبررسی ویژگی های ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با ناخالصی قلع (ito)
چکیده ندارد.
15 صفحه اولبررسی خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک اکسید قلع آلاییده باناخالصی ایندیوم
چکیده ندارد.
15 صفحه اولبررسی ویژگی های اپتیکی و ریخت شناسی لایه های نانومتری اکسید ایندیوم آلاییده با قلع
اکسید ایندیوم قلع (ito) یک نیمرسانای نوع n با گاف انرژی بزرگ است که عبور بالا در ناحیه های مرئی و مادون قرمز نزدیک از خود نشان می دهد. با توجه به روش انباشت، لایه های نازک ito می توانند دارای شفافیت، رسانندگی و مورفولوژی سطح مختلف باشند. لایه های نازک ito مورد استفاده در این تحقیق به روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده اند و در ادامه در 0c 200، 0c300 و 0c 550...
منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
عنوان ژورنال:
پژوهش فیزیک ایرانجلد ۱۲، شماره ۳، صفحات ۲۴۵-۲۵۱
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023